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2025年9月10日-12日,为期三天的SEMI-e深圳国际半导体展暨2025集成电路产业创新展在深圳国际会展中心圆满落幕。

展会现场,多家媒体深入企业展台,开展一对一深度专访,捕捉产业前沿声音。本期我们将回顾展会期间东方晶源的专访内容!




东方晶源成立于2014年,致力于为芯片制造厂商提供一体化良率解决方案,通过攻克光刻质量难题、制程控制等,实现降本赋能与芯片制造良率提升。经过多年深耕,公司成功推出多款填补国内空白的纳米级电子束量检测产品和计算光刻产品,有效解决了我国芯片产业 “卡脖子” 难题。展会现场,东方晶源资深产品总监贾锡文接受专访,详细介绍了公司产品及行业发展机遇与挑战。
贾锡文介绍,截至目前,公司电子束装备累计出货超80台,在客户端的晶圆过货量突破100万片;OPC产品在客户端生产应用中,累计优化掩模超9000张。凭借扎实的技术实力与丰富的落地成果,东方晶源不仅完善了产品线布局,更将产品覆盖至逻辑、存储、三代半导体等多元客户领域,电子束量检测装备与计算光刻产品均得到了客户的验证和好评,在国产替代浪潮中稳步扩大领先优势。


核心产品矩阵:

四大纳米级量检测装备,构建一体化良率生态


东方晶源以 “硬件+软件协同发力,打造了覆盖芯片制造关键环节的产品体系,其中四大纳米级量检测装备各具特色,计算光刻平台则进一步完善了良率解决方案生态。


1.电子束缺陷检测设备(EBI):物理缺陷精准捕捉

作为晶圆缺陷检测的核心装备,东方晶源EBI设备采用电子束扫描技术,实现晶圆表面高分辨率成像,搭配智能算法可精准识别DVCBVC等各类缺陷,更能检测到20纳米以内的物理缺陷。同时,设备集成LIT光照工艺,进一步提升缺陷检测的准确性与稳定性。目前,迭代SEpA-i635型号的EBI设备已完成客户demo认证,其针对3D存储芯片设计的PCC超大电流预充电技术,也已在实际应用中得到验证,为存储芯片制造的良率保障提供关键支持。


2. 关键尺寸量测设备(CD-SEM):0.15 纳米精度,明星产品持续迭代

2022年推出首款CD-SEM设备以来,东方晶源不断优化性能,最新迭代的SEpA-c505型号堪称行业性能标杆”——量测精度与重复精度均达到0.15纳米,20个量测点的每小时晶圆吞吐量突破60片,当前首台SEpA-c505设备已送抵客户现场进行验证。除常规的Line/Space、孔结构量测外,该设备还拓展了LWR/LER、椭圆、GAPSADP等多样化量测功能。更值得关注的是,SEpA-c505新增表面电荷消除与补偿功能,可有效控制荷电效应对量测性能的影响,大幅提升量测稳定性。


3. 电子束缺陷复检设备(DR-SEM):高分辨率成像+能谱分析,年内获多笔订单

DR-SEM设备已持续迭代升级SEpA-r655型号,凭借硬核性能迅速打开市场,目前已斩获国内多笔订单。设备依托高分辨率成像技术,可实现缺陷型号识别与EDX能谱分析,同时具备高深宽比成像能力,能清晰观察晶圆前层结构与3D结构;大视场高景深设计则可精准捕捉晶圆边缘BevelDUV相关特征。此外,SEpA-r655设备已成功完成控片检测验证,为芯片制造过程中 “缺陷定位-复检-分析” 的闭环管理提供高效工具。


4. 高能电子束设备(HV-SEM):高能穿透,深层结构精准量测

同样于今年推出的HV-SEM设备,以 “晶圆深层透视为核心优势,电子束能量可达40KV以上,可穿透晶圆前层甚至次前层结构,精准量测深孔沟槽等关键尺寸。设备主要应用于CDU监测与in-die SEM Overlay(套刻精度)分析,搭配专属软件可生成CDU热力图与数据统计报告,为用户直观呈现量测结果,助力芯片制造过程中关键参数的精准管控。


贾锡文补充,在硬件之外,公司的计算光刻平台PanGen进一步完善了一体化解决方案。针对OPC需求,推出的PanGenPanGen Sim产品,可优化光刻工艺参数,提升图形化精度;同时,平台提供与工厂良率管理软件的对接接口,实现 “硬件量测数据-软件分析优化-工艺调整反馈” 的全流程协同,构建起 “硬件+软件的良率管理生态链。


行业机遇跟挑战:

产业链安全与高端竞争成关键课题


谈及行业机遇与挑战,贾锡文表示,国家大力支持集成电路产业发展,国产替代进程不断提速,政策扶持与客户信任为东方晶源提供了广阔的发展舞台,助力企业进一步打磨产品力,为客户提供更贴合需求的解决方案;另一方面,AI浪潮的兴起、消费电子升级、新能源与汽车电子的快速发展,推动芯片需求呈爆发式增长,进而带动芯片制造装备市场需求扩大,为公司的产品落地与规模扩张创造了有利条件。


同时,他也提醒,尽管机遇显著,挑战亦不容忽视。首先是产业链安全问题——国外产业链在核心零部件的性能与可靠性上仍有一定的优势,为避免 “卡脖子” 风险,企业与行业需持续加大自研投入,突破核心零部件技术壁垒,同时也期待国内供应链提升品质,共同筑牢产业链安全防线;其次是高端市场竞争加剧,随着产品进入客户供应链,东方晶源开始直面国际巨头的打压与竞争,这要求企业在研发与人才储备上持续加码,也需要客户给予更多耐心与支持,助力国产装备在高端芯片领域实现新突破。


聚焦行业热点:

2nm量产与HBM发展,探索国产装备新突破方向


对于近期行业动态,贾锡文提到三星2nm晶圆量产和HBM芯片热潮,认为其将为国产芯片与装备企业带来新的发展启示。


三星宣布推进2nm晶圆量产,标志着EUV光刻技术在先进制程领域的又一次突破,也意味着全球高端芯片制造的竞争进入新阶段。贾锡文认为,国际巨头在先进制程上的领先,倒逼国产企业需跳出 “跟随式研发,从差异化技术方向寻找突破点,例如针对2nm及以下制程的量检测需求,开发更适配的装备与方案,逐步构建国产装备的技术特色。


作为AI算力芯片的核心组件,HBM近期成为行业焦点,海力士等国际企业纷纷加大投入。贾锡文表示,东方晶源将紧抓HBMAI芯片发展机遇,持续优化电子束量检测装备与计算光刻产品,为国内AI芯片制造企业提供精准、高效的良率解决方案,助力国产AI芯片产业链实现关键突破,推动我国在AI算力领域的自主可控发展。


从产品落地到生态构建,从机遇把握到挑战应对,东方晶源以技术为基、以市场为导向,在国产芯片装备和计算光刻领域稳步前行。未来,随着技术持续突破与产品不断迭代,有望进一步扩大行业影响力,为我国集成电路产业的高质量发展注入更多动能。


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版权所有:SEMI-e 深圳国际半导体展暨2026 集成电路产业创新展  时间:2026年9月9-11日 地点:深圳国际会展中心(宝安展馆)